基于0.13μm CMOS工艺的K波段SPDT开关

摘要:基于130 nm CMOS工艺,设计了一种24 GHz工作频率的单刀双掷(SPDT)开关。该开关基于π型阻抗匹配网络,将浮体技术和堆叠晶体管结构应用于开关的并联臂、串联臂,实现了低插入损耗、高隔离度和高线性度。仿真结果表明,该SPDT开关的插入损耗S21的-1.5 dB带宽为20~26 GHz。在20~26 GHz频率范围内,输入回波损耗S11小于-18 dB,输出回波损耗S22小于-17 dB,隔离度S12大于32.2 dB。在频率24.5 GHz处,S21可达-1.45 dB,输入1 dB压缩点为17.36 dBm。

关键词:
  • 单刀双掷开关  
  • cmos工艺  
  • 浮体技术  
  • 堆叠晶体管  
作者:
曹志远; 何进; 李海华; 王豪; 常胜; 黄启俊
单位:
武汉大学物理科学与技术学院; 武汉430072
刊名:
微电子学

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期刊名称:微电子学

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